苹果正在为下一代 iPhone 测试新的抗反射光学涂层技术，减少炫光和“鬼影”

消息源 yeux1122 在其 Naver 博客上爆料，表示从苹果供应链处获悉，该公司正在积极测试一种全新的抗反射光学涂层技术。这项技术有望显著减少镜头炫光和鬼影等摄影伪影，从而大幅提升照片质量。

供应链消息透露，苹果正在考虑在 iPhone 相机镜头的制造工艺中引入先进的原子层沉积（ALD）设备。ALD 是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD 是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。

具体到相机镜头方面，ALD 工艺主要被用于喷涂抗反射涂层。当太阳等强光源直接照射镜头时，最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕等失真现象，而 ALD 技术能够有效减少这些伪影，提高图像质量。同时，ALD 应用材料还能防止环境对相机镜头系统造成损害，确保传感器能够高效捕捉光线。

博文进一步指出，苹果计划将该工艺应用于iPhone 的 Pro 机型中，有可能会出现在即将发布的 iPhone 16 Pro 系列或明年的 iPhone 17 Pro 系列上。

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